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薬液供給装置

薬液供給装置
薬液供給装置

半導体・液晶製造用の洗浄装置などに使用する薬液を希釈し、供給する装置です。純水中に高濃度の薬液をインラインで注入・混合し、所定の濃度の薬液を供給します。連続供給が可能で汚染がありません。薬液濃度は導電率から換算するのでリアルタイムにかつ正確に管理することが可能です。2系統のユースポイントへ供給が出来ます。HF、NH4OH、有機酸等様々な薬品に対応可能です。

    仕様
  • 原液  フッ酸(50wt%)
  • 希釈性能  0.3~0.7wt%
  • 供給精度  設定濃度±0.05wt%
  • 供給薬液温度  常温
  • 電源  AC100V、50/60Hz、10A
  • 寸法  800mm幅×750mm奥行×1700mm高